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CLONE双模式等离子刻蚀机清洗机(SHNTI)
CLONE双模式等离子刻蚀机清洗机(SHNTI)
双模式等离子清洗机,等离子刻蚀系统(PE/RIE)欢迎咨询,价格面议,电话:021-64283335,邮箱:admin@shnti.com
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总销售量:92件

商品描述:

规格参数

桌面式等离子清洗、蚀刻系统,等离子刻蚀&反应离子刻蚀系统

腔室结构:



型号比较:



  应用:

·        刻蚀:氧化物刻蚀 RIE模式, 氮化物刻蚀RIE模式, 硅刻蚀 RIE模式, 光刻胶刻蚀 RIE模式, 聚合物(RIE+PE),二维材料 RIE

·        表面处理:亲水处理 PE模式,功能化 PE模式,粘附力增强:PE+RIE,高分子: RIE+PE



·        氧化物刻蚀

        可以实现1um以下刻蚀

       



·        轻刻蚀(PS-b-PMMA

·        轻刻蚀(WSe2

·        Parylene聚对二甲苯刻蚀

·        刻蚀一致性


·        钙钛矿太阳能电池

·        MoS2,WS2,ReS2, 减薄


Tel:021-64283335

Email:admin@shnti.com

规格参数
  • 商品货号: SHNTI-CLONE4,CLONE6,CLONE8
  • 商品品牌: Femto Science
  • 商品重量: 60.000千克
  • 上架时间: 2022-11-10
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